氮?dú)庹婵諢o(wú)氧烘箱,高溫?zé)o氧真空烘箱用于鍵合前鍵合材料的真空固化 、LCP膜熱處理,BCB/PI膠固化等工藝。 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、新材料、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè),適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
真空無(wú)氧烘箱,PI固化厭氧烤箱用于PI/BCB/LCP固化,半導(dǎo)體封裝等。 溫度范圍:RT+30~450℃; 溫度波動(dòng)度:±1℃; 溫控精度:0.1℃; 氧濃度:10ppm 真空度:100pa
LCP膜專(zhuān)用高溫?zé)o氧烘箱LCP薄膜需要進(jìn)行厚度組織重整及配套的熱處理優(yōu)化,才能滿足高頻高速服役環(huán)境下的性能要求.
濕敏薄膜專(zhuān)用高溫?zé)o氧烘箱將基底溶液聚酰胺酸懸涂在制備有犧牲層的載體硅片上,采用MEMS工藝制作濕度敏感單元,本文制作的濕度傳感器采用“三明治”結(jié)構(gòu),包括上電極、感濕層和下電極,上下電極均采用蒸鍍工藝,蒸鍍金作為電極;感濕膜為聚酰亞胺材料,采用旋涂的方法制備感濕層
高溫?zé)o氧烘箱,充氮高溫 無(wú)氧烤箱應(yīng)用于MEMS智能傳感器芯片生產(chǎn)、LCD前工段生產(chǎn)、玻璃基板等工藝中的PI(聚酰亞胺)固化,BCB聚合物、PBO高溫固化,銀膠固化,光刻膠固化,鍍金方案中感濕膜烘烤工藝,車(chē)載玻璃鍍膜后退火,硅片(晶圓)高溫退火,PCB板防氧化烘烤,氟橡膠材料厭氧烘烤工藝,電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求
無(wú)氧烘箱,無(wú)氧烤箱氧濃度儀應(yīng)用于精密電子元件、PI、BCB、LCP固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升降溫環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、COB封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求,廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品、五金制品、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等行業(yè)。