大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱 是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于基片表面預(yù)處理,通過六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強(qiáng)光刻膠與基片的黏附性。
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時(shí)長(zhǎng)及保持時(shí)間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護(hù)層,,將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時(shí)提升膠層與基片的黏附強(qiáng)度?。
抗粘劑蒸鍍機(jī) 硅烷鍍膜機(jī) 氣相沉積系統(tǒng) 硅烷偶聯(lián)劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類重要的有機(jī)硅化合物,在材料表面改性、復(fù)合材料增強(qiáng)、涂層制備等眾多領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。
HMDS涂膠機(jī),智能型HMDS涂 膠機(jī)將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。